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Oxigênio (O2)
O oxigênio é um gás incolor e inodoro.É a forma elementar mais comum de oxigênio.No que diz respeito à tecnologia, o oxigênio é extraído do processo de liquefação do ar, e o oxigênio no ar representa cerca de 21%.O oxigênio é um gás incolor e inodoro com a fórmula química O2, que é a forma elementar mais comum de oxigênio.O ponto de fusão é -218,4°C e o ponto de ebulição é -183°C.Não é facilmente solúvel em água.Cerca de 30mL de oxigênio são dissolvidos em 1L de água, e o oxigênio líquido é azul celeste. -
Dióxido de Enxofre (SO2)
O dióxido de enxofre (dióxido de enxofre) é o óxido de enxofre mais comum, simples e irritante com a fórmula química SO2.O dióxido de enxofre é um gás incolor e transparente com um odor pungente.Solúvel em água, etanol e éter, o dióxido de enxofre líquido é relativamente estável, inativo, não combustível e não forma uma mistura explosiva com o ar.O dióxido de enxofre tem propriedades de branqueamento.O dióxido de enxofre é comumente usado na indústria para branquear celulose, lã, seda, chapéus de palha, etc. O dióxido de enxofre também pode inibir o crescimento de fungos e bactérias. -
Óxido de etileno (ETO)
O óxido de etileno é um dos éteres cíclicos mais simples.É um composto heterocíclico.Sua fórmula química é C2H4O.É um carcinógeno tóxico e um importante produto petroquímico.As propriedades químicas do óxido de etileno são muito ativas.Pode sofrer reações de adição de abertura de anel com muitos compostos e pode reduzir o nitrato de prata. -
1,3 Butadieno (C4H6)
O 1,3-butadieno é um composto orgânico com fórmula química C4H6.É um gás incolor com um leve cheiro aromático e é fácil de liquefazer.É menos tóxico e sua toxicidade é semelhante à do etileno, mas tem forte irritação na pele e mucosas, e tem efeito anestésico em altas concentrações. -
Hidrogênio (H2)
O hidrogênio tem uma fórmula química de H2 e um peso molecular de 2,01588.Sob temperatura e pressão normais, é um gás extremamente inflamável, incolor, transparente, inodoro e insípido, de difícil dissolução em água e que não reage com a maioria das substâncias. -
Néon (Ne)
Neon é um gás raro incolor, inodoro e não inflamável com uma fórmula química de Ne.Normalmente, o néon pode ser usado como gás de enchimento para luzes de néon coloridas para exibições de publicidade ao ar livre e também pode ser usado para indicadores visuais de luz e regulação de tensão.E componentes de mistura de gás de laser.Gases nobres como Neon, Krypton e Xenon também podem ser usados para encher produtos de vidro para melhorar seu desempenho ou função. -
Tetrafluoreto de Carbono (CF4)
O tetrafluoreto de carbono, também conhecido como tetrafluormetano, é um gás incolor à temperatura e pressão normais, insolúvel em água.O gás CF4 é atualmente o gás de gravação de plasma mais amplamente utilizado na indústria de microeletrônica.Também é usado como gás de laser, refrigerante criogênico, solvente, lubrificante, material isolante e refrigerante para tubos detectores de infravermelho. -
Fluoreto de Enxofre (F2O2S)
Fluoreto de enxofre SO2F2, gás venenoso, é usado principalmente como inseticida.Como o fluoreto de sulfurila tem as características de forte difusão e permeabilidade, inseticida de amplo espectro, baixa dosagem, baixa quantidade residual, velocidade inseticida rápida, tempo curto de dispersão de gás, uso conveniente em baixa temperatura, sem efeito na taxa de germinação e baixa toxicidade, mais É cada vez mais amplamente utilizado em armazéns, navios de carga, edifícios, barragens de reservatórios, prevenção de cupins, etc. -
Silano (SiH4)
Silano SiH4 é um gás comprimido incolor, tóxico e muito ativo em temperatura e pressão normais.O silano é amplamente utilizado no crescimento epitaxial de silício, matérias-primas para polissilício, óxido de silício, nitreto de silício, etc., células solares, fibras ópticas, fabricação de vidro colorido e deposição química de vapor. -
Octafluorociclobutano (C4F8)
Octafluorociclobutano C4F8, pureza do gás: 99,999%, frequentemente usado como propulsor de aerossol alimentar e gás médio.É frequentemente usado no processo PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor Deposition) de semicondutores, C4F8 é usado como um substituto para CF4 ou C2F6, usado como gás de limpeza e gás de gravação de processo de semicondutor. -
Óxido Nítrico (NO)
O gás óxido nítrico é um composto de nitrogênio com a fórmula química NO.É um gás incolor, inodoro e venenoso, insolúvel em água.O óxido nítrico é quimicamente muito reativo e reage com o oxigênio para formar o gás corrosivo dióxido de nitrogênio (NO₂). -
Cloreto de Hidrogênio (HCl)
Cloreto de hidrogênio HCL Gas é um gás incolor com um odor pungente.Sua solução aquosa é chamada de ácido clorídrico, também conhecido como ácido clorídrico.Cloreto de hidrogênio é usado principalmente para fazer corantes, especiarias, medicamentos, vários cloretos e inibidores de corrosão.
