Venda imperdível fábrica de alta pureza 99,999% gás tetrafluoreto de carbono CF4 para gravação na indústria de condutores Sim

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Parâmetros técnicos

Especificação 99,999%
Oxigênio+Argônio ≤1 ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidade (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbinas ≤1 ppm
Total de impurezas ≤10 ppm

Tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4.Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorcarbono ou um composto inorgânico.O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio.Estável sob temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis.Gás incombustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposto a altas temperaturas, havendo perigo de rachaduras e explosão.É quimicamente estável e não inflamável.Apenas o reagente de metal de amônia-sódio líquido pode funcionar à temperatura ambiente.Tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito estufa.É muito estável, pode permanecer na atmosfera por muito tempo e é um gás de efeito estufa muito poderoso.Tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação de plasma de vários circuitos integrados.Também é usado como gás de laser e é usado em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores infravermelhos.É o gás de gravação de plasma mais usado na indústria de microeletrônica.É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e gás tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza.Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfosilicato.A corrosão de materiais de película fina, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia a laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos.Usado como um refrigerante de baixa temperatura e tecnologia de gravação a seco de plasma para circuitos integrados.Precauções de armazenamento: Armazene em um depósito de gás não combustível fresco e ventilado.Mantenha longe de fontes de fogo e calor.A temperatura de armazenamento não deve exceder 30°C.Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes facilmente (combustíveis) e evitar o armazenamento misto.A área de armazenamento deve ser equipada com equipamentos de tratamento de emergência para vazamentos.

Aplicativo:

① Refrigerante:

Às vezes, o tetrafluormetano é usado como refrigerante de baixa temperatura.

  fdrgr grego

② Gravura:

É usado na microfabricação de eletrônicos sozinho ou em combinação com oxigênio como um agente corrosivo de plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

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Pacote normal:

produtos Tetrafluoreto de Carbono CF4
tamanho do pacote Cilindro de 40 litros Cilindro de 50 litros  
Peso Líquido de Enchimento/cil 30Kgs 38Kgs  
QTY carregado em 20'Container 250 Cils 250 Cils
Peso Líquido Total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso da Tara do Cilindro 50Kgs 55Kgs
Válvula CGA 580

Vantagem:

①Alta pureza, instalação mais recente;

②Fabricante certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análise on-line para controle de qualidade em todas as etapas;

⑤Alta exigência e processo meticuloso para manuseio do cilindro antes do enchimento;Agora, temos muitos funcionários excelentes, usuários excelentes em marketing na Internet, controle de qualidade e trabalhando com tipos de dilemas problemáticos no método de fabricação para venda imperdível Fábrica de alta pureza 99,999% gás tetrafluoreto de carbono CF4 para gravação na indústria de condutores Simcondutores, calorosamente bem-vindo a cooperar e desenvolver conosco!continuaremos a fornecer produtos com alta qualidade e preço competitivo.
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