Gases eletrônicos especiais comuns contendo flúor incluemhexafluoreto de enxofre (SF6), hexafluoreto de tungstênio (WF6),tetrafluoreto de carbono (CF4), trifluorometano (CHF3), trifluoreto de nitrogênio (NF3), hexafluoroetano (C2F6) e octafluoropropano (C3F8).
Com o desenvolvimento da nanotecnologia e o desenvolvimento em larga escala da indústria electrónica, a sua procura aumentará dia a dia. O trifluoreto de nitrogênio, como gás eletrônico especial indispensável e mais utilizado na produção e processamento de painéis e semicondutores, possui amplo espaço de mercado.
Como um tipo de gás especial contendo flúor,trifluoreto de nitrogênio (NF3)é o produto de gás eletrônico especial com maior capacidade de mercado. É quimicamente inerte à temperatura ambiente, mais ativo que o oxigênio em alta temperatura, mais estável que o flúor e fácil de manusear. O trifluoreto de nitrogênio é usado principalmente como gás de gravação de plasma e agente de limpeza de câmara de reação, e é adequado para as áreas de fabricação de chips semicondutores, monitores de tela plana, fibras ópticas, células fotovoltaicas, etc.
Comparado com outros gases eletrônicos contendo flúor,trifluoreto de nitrogêniotem as vantagens de reação rápida e alta eficiência. Especialmente na gravação de materiais contendo silício, como o nitreto de silício, possui alta taxa de gravação e seletividade, não deixando resíduos na superfície do objeto gravado. É também um agente de limpeza muito bom e não polui a superfície, o que pode atender às necessidades do processo de processamento.
Horário da postagem: 14 de setembro de 2024
