Gases eletrônicos especiais comuns contendo fluorina incluemHexafluoreto de enxofre (SF6), hexafluoreto de tungstênio (WF6),tetrafluoreto de carbono (CF4), trifluorometano (CHF3), trifluoreto de nitrogênio (NF3), hexafluoroetano (C2F6) e octafluoropropano (C3F8).
Com o desenvolvimento da nanotecnologia e o desenvolvimento em larga escala da indústria eletrônica, sua demanda aumentará dia a dia. O trifluoreto de nitrogênio, como um gás eletrônico especial indispensável e mais usado na produção e processamento de painéis e semicondutores, tem um amplo espaço de mercado.
Como um tipo de gás especial contendo fluorina,Trifluoreto de nitrogênio (NF3)é o produto eletrônico de gás especial com a maior capacidade de mercado. É quimicamente inerte à temperatura ambiente, mais ativo que o oxigênio a alta temperatura, mais estável que o fluorino e fácil de manusear. O trifluoreto de nitrogênio é usado principalmente como um gás de gravação de plasma e um agente de limpeza da câmara de reação, e é adequado para os campos de fabricação de chips semicondutores, exibições de painéis planos, fibras ópticas, células fotovoltaicas, etc.
Comparado com outros gases eletrônicos contendo fluorina,trifluoreto de nitrogêniotem as vantagens de reação rápida e alta eficiência. Especialmente na gravação de materiais contendo silício, como o nitreto de silício, ele possui uma alta taxa de gravação e seletividade, não deixando resíduos na superfície do objeto gravado. É também um agente de limpeza muito bom e não tem poluição na superfície, que pode atender às necessidades do processo de processamento.
Hora de postagem: 14-2024 de setembro
