Chegada recentemente China de alta pureza CF4 Gas para gravação da indústria de semicondutores

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Parâmetros técnicos

Especificação 99,999%
Oxigênio+argônio ≤1ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidade (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Impurezas totais ≤10 ppm

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorocarboneto ou composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. Estável sob temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. Gás não combustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposta ao calor alto e há o risco de rachaduras e explosão. É quimicamente estável e não inflamável. Somente o reagente de metal de amônia-sólium líquido pode funcionar à temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito de estufa. É muito estável, pode permanecer na atmosfera por um longo tempo e é um gás de efeito estufa muito poderoso. O tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação plasmático de vários circuitos integrados. Também é usado como gás a laser e é usado em refrigerantes, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores de infravermelho. É o gás de gravação de plasma mais usado na indústria de microeletrônicos. É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e tetrafluorometano Gas de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silicone e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais finos de filme, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia a laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos. Usado como uma tecnologia de grafio de refrigerante e plasma de baixa temperatura para circuitos integrados. Precauções para armazenamento: armazene em um armazém de gás não combustível e ventilado e ventilado. Mantenha -se longe de fontes de fogo e calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30 ° C. Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes facilmente (combustíveis) e evitar armazenamento misto. A área de armazenamento deve ser equipada com equipamentos de tratamento de emergência de vazamento.

Aplicativo:

① Refrigerante:

Às vezes, o tetrafluorometano é usado como refrigerante de baixa temperatura.

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② Gravura:

É usado apenas na microfabricação eletrônica ou em combinação com oxigênio como um gravador plasmático para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

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Pacote normal:

Produto Tetrafluoreto de carbono cf4
Tamanho do pacote 40LTR Cilindro Cilindro 50LTR  
Preencher peso líquido/cilindro 30kgs 38kgs  
Qty carregado em 20'Container 250 cilindros 250 cilindros
Peso líquido total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso da tara do cilindro 50kgs 55kgs
Válvula CGA 580

Vantagem:

① High Purity, mais recente instalação;

Fabricante de certificados IISO;

③ Entrega rápida;

④ Sistema de análise de linha de linha para controle de qualidade em todas as etapas;

Requisito requisitos e processo meticuloso para manusear o cilindro antes de encher;Acreditamos: a inovação é nossa alma e espírito. Boa qualidade é a nossa vida. O comprador precisa ter é o nosso deus para o recém -chegada China de alta pureza CF4 Gas para a gravação da indústria de semicondutores. Fazemos sinceramente o possível para oferecer o melhor serviço a todos os clientes e empresários.
Chegada recentementeChina CF4 Gas, Cilindro a gás, Agora a competição neste campo é muito feroz; Mas ainda ofereceremos o melhor preço, preço razoável e serviço mais atencioso em um esforço para alcançar uma meta em que todos ganham. "Mude para melhor!" é o nosso slogan, o que significa "um mundo melhor está diante de nós, então vamos aproveitar!" Mude para melhor! Você está pronto?


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