Fabricante de tanques pequenos de cilindro popular tetrafluoreto de carbono cf4

Agora temos nosso grupo de vendas individual, equipe de layout, equipe técnica, equipe de QC e grupo de pacotes. Agora, temos procedimentos rígidos de controle de alta qualidade para cada procedimento. Além disso, todos os nossos trabalhadores têm experiência na impressão de disciplina para o fabricante de pequenos tanques de tetrafluoreto de carbono popular de tanque CF4, nossas soluções foram exportadas para a América do Norte, Europa, Japão, Coréia, Austrália, Nova Zelândia, Rússia e outros países. Ansioso para construir uma ótima e duradoura cooperação com você no futuro futuro!
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Parâmetros técnicos

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorocarboneto ou composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. Estável sob temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. Gás não combustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposta ao calor alto e há o risco de rachaduras e explosão. É quimicamente estável e não inflamável. Somente o reagente de metal de amônia-sólium líquido pode funcionar à temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito de estufa. É muito estável, pode permanecer na atmosfera por um longo tempo e é um gás de efeito estufa muito poderoso. O tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação plasmático de vários circuitos integrados. Também é usado como gás a laser e é usado em refrigerantes, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores de infravermelho. É o gás de gravação de plasma mais usado na indústria de microeletrônicos. É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e tetrafluorometano Gas de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silicone e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais finos de filme, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia a laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos. Usado como uma tecnologia de grafio de refrigerante e plasma de baixa temperatura para circuitos integrados. Precauções para armazenamento: armazene em um armazém de gás não combustível e ventilado e ventilado. Mantenha -se longe de fontes de fogo e calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30 ° C. Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes facilmente (combustíveis) e evitar armazenamento misto. A área de armazenamento deve ser equipada com equipamentos de tratamento de emergência de vazamento.

Aplicativo:

① Refrigerante:

Às vezes, o tetrafluorometano é usado como refrigerante de baixa temperatura.

② Gravura:

É usado apenas na microfabricação eletrônica ou em combinação com oxigênio como um gravador plasmático para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

Pacote normal:

Vantagem:

① High Purity, mais recente instalação;

Fabricante de certificados IISO;

③ Entrega rápida;

④ Sistema de análise de linha de linha para controle de qualidade em todas as etapas;

Requisito requisitos e processo meticuloso para manusear o cilindro antes de encher;Agora temos nosso grupo de vendas individual, equipe de layout, equipe técnica, equipe de QC e grupo de pacotes. Agora, temos procedimentos rígidos de controle de alta qualidade para cada procedimento. Além disso, todos os nossos trabalhadores têm experiência na impressão de disciplina para o fabricante de pequenos tanques de tetrafluoreto de carbono popular de tanque CF4, nossas soluções foram exportadas para a América do Norte, Europa, Japão, Coréia, Austrália, Nova Zelândia, Rússia e outros países. Ansioso para construir uma ótima e duradoura cooperação com você no futuro futuro!
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