Fabricante de cilindro popular de tetrafluoreto de carbono CF4 para tanques pequenos

Agora temos nosso grupo de vendas individual, equipe de layout, equipe técnica, equipe de controle de qualidade e grupo de pacotes. Agora temos procedimentos rigorosos de controle de alta qualidade para cada procedimento. Além disso, todos os nossos trabalhadores têm experiência na disciplina de impressão para Fabricante de Tetrafluoreto de Carbono de Cilindro Popular de Tanques Pequenos CF4. Nossas soluções foram exportadas para América do Norte, Europa, Japão, Coréia, Austrália, Nova Zelândia, Rússia e outros países. Ansioso para construir uma cooperação excelente e duradoura com você no futuro próximo!
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Parâmetros Técnicos

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono ou um composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. Estável sob temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. Gás não combustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposto a altas temperaturas e há perigo de rachaduras e explosão. É quimicamente estável e não inflamável. Somente o reagente metálico líquido de amônia-sódio pode funcionar à temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito estufa. É muito estável, pode permanecer na atmosfera por muito tempo e é um poderoso gás de efeito estufa. O tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação a plasma de vários circuitos integrados. Também é usado como gás laser e em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores infravermelhos. É o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e gás tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais de película fina, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos. Usado como refrigerante de baixa temperatura e tecnologia de gravação a seco de plasma para circuitos integrados. Precauções de armazenamento: Armazene em um armazém de gás não combustível fresco e ventilado. Manter afastado do fogo e de fontes de calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30°C. Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes facilmente (combustíveis) e evitar armazenamento misto. A área de armazenamento deve estar equipada com equipamento de tratamento de emergência para vazamentos.

Aplicativo:

① Refrigerante:

O tetrafluorometano às vezes é usado como refrigerante de baixa temperatura.

② Gravura:

É usado na microfabricação de eletrônicos sozinho ou em combinação com oxigênio como decapante de plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

Pacote normal:

Vantagem:

①Alta pureza, instalações mais recentes;

②Fabricante de certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análise on-line para controle de qualidade em todas as etapas;

⑤Alta exigência e processo meticuloso para manuseio do cilindro antes do enchimento;Agora temos nosso grupo de vendas individual, equipe de layout, equipe técnica, equipe de controle de qualidade e grupo de pacotes. Agora temos procedimentos rigorosos de controle de alta qualidade para cada procedimento. Além disso, todos os nossos trabalhadores têm experiência na disciplina de impressão para Fabricante de Tetrafluoreto de Carbono de Cilindro Popular de Tanques Pequenos CF4. Nossas soluções foram exportadas para América do Norte, Europa, Japão, Coréia, Austrália, Nova Zelândia, Rússia e outros países. Ansioso para construir uma cooperação excelente e duradoura com você no futuro próximo!
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