Lista de preços baratos para gases especiais da China, fornecimento de gás CF4 de tetrafluoreto de carbono/tetrafluorometano com grau de elétrons/semicondutores com pureza de 99,999%

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“Sinceridade, Inovação, Rigor e Eficiência” podem ser a concepção persistente da nossa organização para o longo prazo, a ser estabelecida em conjunto com os clientes para reciprocidade mútua e ganho mútuo paraChina CF4 e gás CF4“Criar Valor, Servir o Cliente!” é o nosso objetivo. Esperamos sinceramente que todos os nossos clientes estabeleçam uma cooperação duradoura e mutuamente benéfica connosco. Se desejar saber mais detalhes sobre a nossa empresa, entre em contato conosco agora mesmo!

Parâmetros técnicos

Especificação 99,999%
Oxigênio + Argônio ≤1ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidade (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynes ≤1 ppm
Impurezas Totais ≤10 ppm

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono ou um composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. Estável em temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. Gás não combustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposto a altas temperaturas, e há risco de rachaduras e explosão. É quimicamente estável e não inflamável. Somente o reagente metálico de amônia-sódio líquido pode funcionar à temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito estufa. É muito estável, pode permanecer na atmosfera por um longo tempo e é um gás de efeito estufa muito poderoso. O tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação de plasma de vários circuitos integrados. Também é usado como gás laser e em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores infravermelhos. É o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e gás tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfossilicato. A gravação de materiais de película fina, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia a laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos. Usado como refrigerante de baixa temperatura e tecnologia de gravação a plasma a seco para circuitos integrados. Precauções para armazenamento: Armazene em um depósito de gás não combustível fresco e ventilado. Mantenha longe de fogo e fontes de calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30 °C. Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes de fácil combustão, evitando-se o armazenamento misto. A área de armazenamento deve ser equipada com equipamento de tratamento de emergência para vazamentos.

Aplicativo:

① Refrigerante:

O tetrafluorometano às vezes é usado como refrigerante de baixa temperatura.

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② Gravura:

É usado na microfabricação de eletrônicos sozinho ou em combinação com oxigênio como um agente de corrosão de plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

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Pacote normal:

Produto Tetrafluoreto de carbono CF4
Tamanho da embalagem Cilindro de 40 litros Cilindro de 50 litros  
Peso líquido de enchimento/cil 30 kg 38 kg  
QTD carregado em contêiner de 20' 250 cilindros 250 cilindros
Peso líquido total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso da tara do cilindro 50 kg 55 kg
Válvula CGA 580

Vantagem:

①Alta pureza, instalação de última geração;

②Fabricante de certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análise on-line para controle de qualidade em todas as etapas;

⑤Alto nível de exigência e processo meticuloso para manuseio do cilindro antes do enchimento;


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