| Especificação | 99,999% |
| Oxigênio + Argônio | ≤1 ppm |
| Azoto | ≤4 ppm |
| Umidade (H2O) | ≤3 ppm |
| HF | ≤0,1 ppm |
| CO | ≤0,1 ppm |
| CO2 | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤1 ppm |
| Halocarbinos | ≤1 ppm |
| Impurezas totais | ≤10 ppm |
O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF₄. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, um metano halogenado, um perfluorocarbono ou um composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. É estável em condições normais de temperatura e pressão, devendo-se evitar o contato com oxidantes fortes, materiais inflamáveis ou combustíveis. É um gás não combustível, porém a pressão interna do recipiente aumenta quando exposto a altas temperaturas, havendo risco de fissuras e explosões. É quimicamente estável e não inflamável. Somente a amônia líquida e o reagente de sódio metálico podem ser utilizados em temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que contribui para o efeito estufa. É muito estável, podendo permanecer na atmosfera por longos períodos, sendo um potente gás de efeito estufa. O tetrafluoreto de carbono é utilizado no processo de gravação a plasma de diversos circuitos integrados. Também é utilizado como gás laser e em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e fluidos de arrefecimento para detectores infravermelhos. É o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. Trata-se de uma mistura de tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais de película fina, como tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, na produção de células solares, em tecnologia laser, em refrigeração de baixa temperatura, na inspeção de vazamentos e como detergente na produção de circuitos impressos. Utilizado como refrigerante de baixa temperatura e em tecnologia de gravação a seco por plasma para circuitos integrados. Precauções de armazenamento: Armazenar em local fresco, ventilado e livre de gases combustíveis. Manter afastado do fogo e de fontes de calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30 °C. Deve ser armazenado separadamente de materiais facilmente combustíveis e oxidantes, evitando-se o armazenamento misto. A área de armazenamento deve ser equipada com equipamento de tratamento de emergência para vazamentos.
① Refrigerante:
O tetrafluorometano é por vezes utilizado como refrigerante a baixas temperaturas.
② Gravura:
É utilizado na microfabricação eletrônica, sozinho ou em combinação com oxigênio, como agente de corrosão por plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.
| Produto | Tetrafluoreto de carbonoCF4 | ||
| Tamanho da embalagem | Cilindro de 40 litros | Cilindro de 50 litros | |
| Peso líquido de enchimento/cilindro | 30 kg | 38 kg | |
| Quantidade carregada em um contêiner de 20 pés | 250 cilindros | 250 cilindros | |
| Peso líquido total | 7,5 toneladas | 9,5 toneladas | |
| Peso tara do cilindro | 50 kg | 55 kg | |
| Válvula | CGA 580 | ||
①Alta pureza, instalações de última geração;
②Fabricante com certificação ISO;
③Entrega rápida;
④ Sistema de análise online para controle de qualidade em cada etapa;
⑤Alto nível de exigência e processo meticuloso para o manuseio do cilindro antes do enchimento;