Tetrafluoreto de carbono (CF4)

Descrição resumida:

O tetrafluoreto de carbono, também conhecido como tetrafluorometano, é um gás incolor em condições normais de temperatura e pressão, insolúvel em água. O gás CF4 é atualmente o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. Também é utilizado como gás laser, refrigerante criogênico, solvente, lubrificante, material isolante e fluido refrigerante para tubos detectores de infravermelho.


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Parâmetros técnicos

Especificação 99,999%
Oxigênio + Argônio ≤1 ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidade (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbinos ≤1 ppm
Impurezas totais ≤10 ppm

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF₄. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, um metano halogenado, um perfluorocarbono ou um composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. É estável em condições normais de temperatura e pressão, devendo-se evitar o contato com oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. É um gás não combustível, porém a pressão interna do recipiente aumenta quando exposto a altas temperaturas, havendo risco de fissuras e explosões. É quimicamente estável e não inflamável. Somente a amônia líquida e o reagente de sódio metálico podem ser utilizados em temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que contribui para o efeito estufa. É muito estável, podendo permanecer na atmosfera por longos períodos, sendo um potente gás de efeito estufa. O tetrafluoreto de carbono é utilizado no processo de gravação a plasma de diversos circuitos integrados. Também é utilizado como gás laser e em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e fluidos de arrefecimento para detectores infravermelhos. É o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. Trata-se de uma mistura de tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais de película fina, como tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, na produção de células solares, em tecnologia laser, em refrigeração de baixa temperatura, na inspeção de vazamentos e como detergente na produção de circuitos impressos. Utilizado como refrigerante de baixa temperatura e em tecnologia de gravação a seco por plasma para circuitos integrados. Precauções de armazenamento: Armazenar em local fresco, ventilado e livre de gases combustíveis. Manter afastado do fogo e de fontes de calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30 °C. Deve ser armazenado separadamente de materiais facilmente combustíveis e oxidantes, evitando-se o armazenamento misto. A área de armazenamento deve ser equipada com equipamento de tratamento de emergência para vazamentos.

Aplicativo:

① Refrigerante:

O tetrafluorometano é por vezes utilizado como refrigerante a baixas temperaturas.

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② Gravura:

É utilizado na microfabricação eletrônica, sozinho ou em combinação com oxigênio, como agente de corrosão por plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

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Pacote normal:

Produto Tetrafluoreto de carbonoCF4
Tamanho da embalagem Cilindro de 40 litros Cilindro de 50 litros  
Peso líquido de enchimento/cilindro 30 kg 38 kg  
Quantidade carregada em um contêiner de 20 pés 250 cilindros 250 cilindros
Peso líquido total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Peso tara do cilindro 50 kg 55 kg
Válvula CGA 580

Vantagem:

①Alta pureza, instalações de última geração;

②Fabricante com certificação ISO;

③Entrega rápida;

④ Sistema de análise online para controle de qualidade em cada etapa;

⑤Alto nível de exigência e processo meticuloso para o manuseio do cilindro antes do enchimento;


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