Tetrafluoreto de Carbono (CF4)

Breve descrição:

O tetrafluoreto de carbono, também conhecido como tetrafluorometano, é um gás incolor à temperatura e pressão normais, insolúvel em água. O gás CF4 é atualmente o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. Também é usado como gás laser, refrigerante criogênico, solvente, lubrificante, material isolante e refrigerante para tubos detectores infravermelhos.


Detalhes do produto

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Parâmetros Técnicos

Especificação 99,999%
Oxigênio + Argônio ≤1ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidade (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbinas ≤1 ppm
Impurezas Totais ≤10 ppm

O tetrafluoreto de carbono é um hidrocarboneto halogenado com a fórmula química CF4. Pode ser considerado um hidrocarboneto halogenado, metano halogenado, perfluorocarbono ou um composto inorgânico. O tetrafluoreto de carbono é um gás incolor e inodoro, insolúvel em água, solúvel em benzeno e clorofórmio. Estável sob temperatura e pressão normais, evite oxidantes fortes, materiais inflamáveis ​​ou combustíveis. Gás não combustível, a pressão interna do recipiente aumentará quando exposto a altas temperaturas e há perigo de rachaduras e explosão. É quimicamente estável e não inflamável. Somente o reagente metálico líquido de amônia-sódio pode funcionar à temperatura ambiente. O tetrafluoreto de carbono é um gás que causa o efeito estufa. É muito estável, pode permanecer na atmosfera por muito tempo e é um poderoso gás de efeito estufa. O tetrafluoreto de carbono é usado no processo de gravação a plasma de vários circuitos integrados. Também é usado como gás laser e em refrigerantes de baixa temperatura, solventes, lubrificantes, materiais isolantes e refrigerantes para detectores infravermelhos. É o gás de gravação a plasma mais utilizado na indústria microeletrônica. É uma mistura de gás tetrafluorometano de alta pureza e gás tetrafluorometano de alta pureza e oxigênio de alta pureza. Pode ser amplamente utilizado em silício, dióxido de silício, nitreto de silício e vidro fosfosilicato. A gravação de materiais de película fina, como tungstênio e tungstênio, também é amplamente utilizada na limpeza de superfícies de dispositivos eletrônicos, produção de células solares, tecnologia laser, refrigeração de baixa temperatura, inspeção de vazamentos e detergente na produção de circuitos impressos. Usado como refrigerante de baixa temperatura e tecnologia de gravação a seco de plasma para circuitos integrados. Precauções de armazenamento: Armazene em um armazém de gás não combustível fresco e ventilado. Manter afastado do fogo e de fontes de calor. A temperatura de armazenamento não deve exceder 30°C. Deve ser armazenado separadamente de combustíveis e oxidantes facilmente (combustíveis) e evitar armazenamento misto. A área de armazenamento deve estar equipada com equipamento de tratamento de emergência para vazamentos.

Aplicativo:

① Refrigerante:

O tetrafluorometano às vezes é usado como refrigerante de baixa temperatura.

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② Gravura:

É usado na microfabricação de eletrônicos sozinho ou em combinação com oxigênio como decapante de plasma para silício, dióxido de silício e nitreto de silício.

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Pacote normal:

Produto Tetrafluoreto de CarbonoCF4
Tamanho do pacote Cilindro 40Ltr Cilindro 50Ltr  
Enchimento Peso Líquido/Cil 30kg 38kg  
QTY carregado em contêiner de 20' 250 Cilindros 250 Cilindros
Peso Líquido Total 7,5 toneladas 9,5 toneladas
Tara do Cilindro 50kg 55kg
Válvula CGA 580

Vantagem:

①Alta pureza, instalações mais recentes;

②Fabricante de certificado ISO;

③Entrega rápida;

④Sistema de análise on-line para controle de qualidade em todas as etapas;

⑤Alta exigência e processo meticuloso para manuseio do cilindro antes do enchimento;


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